序号

类型

设备名称

数量

1

长晶

物理气相传输（PVT）碳化硅长晶炉

10

2

高温化学气相沉积（HTCVD）碳化硅长晶炉

1

3

液相法（LPE）碳化硅长晶炉

1

4

外延

化学气相沉积（CVD）碳化硅外延炉

1

5

薄膜生长

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）（三腔）

1

6

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）（双腔）

1

7

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）（单腔）

1

8

物理气相沉积-磁控溅射设备（PVD)

1

9

电子束蒸镀机(EBE)

1

10

低压力化学气相沉积（LPCVD）（卧式）

1

11

原子层沉积设备（ALD）

1

12

低压力化学气相沉积（LPCVD）（立式）

1

13

辅助及维护设施

C₂H₄-GC

1

14

TCS-GC

1

15

HCl

1

16

吸附式Scrubber

1

17

塑封机

1

18

检漏仪

1

19

超声波清洗机（Parts)

1

20

烘箱

1

21

热氮柜

1

22

PM操作台

1

23

不锈钢工作台

1

24

氮气柜

1